圖源：圖蟲
3月27日，光刻機板塊表現(xiàn)活躍，新萊應(yīng)材（300260.SZ）午后開盤快速“20cm”漲停，國風(fēng)新材（000859.SZ）、凱美特氣（002549.SZ）、西隴科學(xué)（002584.SZ）、海立股份（600619.SH）、冠石科技（605588.SH）、興業(yè)股份（603928.SH）、江化微（603078.SH）、常青科技（603125.SH）等“10cm”漲停，佳先股份（430489.BJ）、芯碁微裝（688630.SH）等公司漲幅居前。
圖源：東方財富網(wǎng)
消息面上，3月26日，SEMICON China 2025在上海開幕。深圳新凱來工業(yè)機器有限公司（下稱“新凱來”）首次公開亮相，并發(fā)布多款產(chǎn)品，覆蓋半導(dǎo)體制造全流程，包括EPI“峨眉山”產(chǎn)品、ETCH“武夷山”產(chǎn)品、CVD“長白山”產(chǎn)品、PVD“普陀山”產(chǎn)品、ALD“阿里山”產(chǎn)品等。
天眼查顯示，新凱來成立于2022年6月7日，其背后股東分別為新凱來技術(shù)有限公司和深圳市均隆高新產(chǎn)業(yè)創(chuàng)業(yè)投資中心（有限合伙）。
圖源：天眼查
就新凱來的產(chǎn)品及發(fā)展情況，時代財經(jīng)3月27日向新凱來方面發(fā)去了采訪提綱,但截至發(fā)稿未獲有效回復(fù)。
據(jù)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫報道，新凱來自成立之初就瞄準國內(nèi)半導(dǎo)體制造企業(yè)的高端裝備需求。其從2022年開始快速構(gòu)建研發(fā)團隊、組織行業(yè)資源，從客戶需求到系統(tǒng)設(shè)計，從零部件開發(fā)到整機集成，3年潛心研發(fā)。3月26日，新凱來發(fā)布的13類產(chǎn)品涵蓋了光學(xué)檢測、光學(xué)量測、PX 量測、功率檢測等領(lǐng)域。
新凱來量檢測裝備產(chǎn)品線總裁酈舟劍在接受媒體采訪時提到，“當(dāng)前首要解決先進制程問題，國外工藝節(jié)點已經(jīng)走的更領(lǐng)先，我們也會朝這個方向持續(xù)地努力，這需要時間，但我們有信心?！?span style="display:none">dqo即熱新聞——關(guān)注每天科技社會生活新變化gihot.com
國泰君安分析稱，美系廠商主導(dǎo)的刻蝕、沉積、量檢測、離子注入等主要半導(dǎo)體設(shè)備進口或進一步受阻，倒逼國產(chǎn)設(shè)備加速發(fā)展。
國信證券研究顯示，光刻機作為所有半導(dǎo)體制造設(shè)備中難度最高、最難突破的一環(huán)，占晶圓生產(chǎn)設(shè)備總市場的24%。從UV到EUV，光刻機經(jīng)歷了五代發(fā)展和進化，每次光源的改進都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。根據(jù)前瞻研究院數(shù)據(jù)，光刻機由光源、曝光和雙工作臺三大核心系統(tǒng)組成，一臺EUV光刻機內(nèi)含有超10萬個精密零部件，全球供應(yīng)商超過5000家。其中光學(xué)系統(tǒng)是最重要的子系統(tǒng)之一，約占整體光刻機成本的30%。
從3月27日光刻機板塊漲停個股來看，據(jù)Wind數(shù)據(jù)，新萊應(yīng)材是超高潔凈設(shè)備關(guān)鍵部件的專業(yè)供應(yīng)商，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于食品飲料、生物醫(yī)藥及泛半導(dǎo)體行業(yè)；國風(fēng)新材深度聚焦高分子功能膜材料、光電新材料、聚酰亞胺材料、綠色環(huán)保木塑新材料、新能源汽車輕量化材料五大產(chǎn)業(yè)；冠石科技主營業(yè)務(wù)為半導(dǎo)體顯示器件及特種膠粘材料的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售；江化微主營超凈高純濕電子化學(xué)品及光刻膠配套濕電子化學(xué)品。
這其中，開源證券研報指出，新萊應(yīng)材產(chǎn)品滿足7nm先進制程需求，批量交付AMAT、LAM、北方華創(chuàng)、長江存儲等全球半導(dǎo)體龍頭。公司產(chǎn)品成熟可批量出貨，國內(nèi)進展順利，后續(xù)訂單有望持續(xù)落地。
國風(fēng)新材在2024年年報中透露，公司聚酰亞胺薄膜材料可廣泛應(yīng)用于柔性顯示、集成電路、芯片柔性封裝、5G通信、新能源汽車、電氣電子、航空航天等領(lǐng)域，目前已批量生產(chǎn)的聚酰亞胺薄膜主要產(chǎn)品為FCCL用聚酰亞胺黃色基膜、遮蔽用聚酰亞胺黑膜、聚酰亞胺碳基膜和芯片封裝用聚酰亞胺薄膜。
冠石科技則在2024年半年報中表示，報告期內(nèi)完成了光掩膜版項目，預(yù)計建成投產(chǎn)后，公司將成為國內(nèi)技術(shù)能力先進的獨立光掩膜版生產(chǎn)企業(yè)，提高我國半導(dǎo)體光掩膜產(chǎn)業(yè)的安全和可控性。
對于江化微，華鑫證券研報表示，公司在濕電子化學(xué)品領(lǐng)域具有較強的市場競爭力，尤其是在高端半導(dǎo)體和光刻膠配套試劑業(yè)務(wù)方面表現(xiàn)突出，并已實現(xiàn)G5等級產(chǎn)品的量產(chǎn)，在華虹集團、長鑫存儲等高端半導(dǎo)體客戶中形成銷售，進一步鞏固了在行業(yè)中的領(lǐng)先地位。
對于國內(nèi)光刻機產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，光大證券研報表示，目前國內(nèi)的IC前道光刻機市場主要被ASML、Nikon和Canon瓜分。ASML為國內(nèi)光刻機最大的進口來源。上海微電子是國內(nèi)光刻機頭部廠商，其自主研發(fā)的600系列光刻機可批量生產(chǎn)90nm工藝的芯片。但是在技術(shù)層面，上海微電子的IC前道光刻機與國際先進水平差距仍較大，國產(chǎn)光刻機仍任重道遠。
截至3月27日收盤，萬得光刻機概念指數(shù)上漲4.99%至3362.53點。
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